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氧化鋅鋁靶材的制備方法，包括以下步驟：（１）以鋅鹽和鋁鹽為原料，加純水溶解，調ｐＨ至７．０～１０．５，然後在水熱條件下，控溫９０～１４０℃反應１．０～２．０小時；（２）過濾使產物和母液分離，用純水洗滌、烘乾，得到氧化鋅鋁粉體；（３）所得粉體在４００～５５０℃煅燒２小時；（４）將步驟（３）所得粉體裝入真空熱壓爐，抽真空１～１００Ｐａ，加壓５０～１００ＭＰａ，然後慢慢升溫，在１２００～１４００℃內保溫燒結２～５小時，再緩慢降溫，制得相對密度不低於９５％的氧化鋅鋁（ＺＡＯ）陶瓷靶材。所制備的靶材用於鍍膜製造成本經濟且無毒，易於實現摻雜，且ＺＡＯ薄膜在等離子體中穩定性好，是ＩＴＯ的替代產品，可廣氾用於太陽能透明電極製造領域。
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